傳聞中國正大量生產 ASML 長期壟斷的關鍵工具，股價週二受挫
China’s reported chip breakthrough comes with some big caveats
作者: Arjun Kharpal | 時間: Tue, 28 Jul 2026 09:44:13 GMT | 來源: CNBC
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ASML 股價週二下跌，報導指出中國正在大量生產一種荷蘭科技巨頭 ASML 長期壟斷的關鍵工具。
此波跌幅伴隨全球半導體股票的劇烈抛售，投資者持續面臨該部門的不確定性。ASML 上週最後成交時股價下跌 1.8%，但今年股價已上漲超過 123%。
分析師對 CNBC 表示，雖然有關中國進入 ASML 主導市場的報導可能引發一些擔憂，但發展情況不太可能動搖該荷蘭公司的市場地位，並指出該消息存在許多重大保留。
"我會對這類消息存疑，因為中國所做的可能僅限於極低端市場，"ODDO BHF 的股票研究主管 Stephane Houri 告訴 CNBC。
資訊報週一報導，一位知情人士透露，一家未具名的中國公司已開始製造浸沒式深紫外光刻機（DUV）。
這些工具預計將於今年交付給中國最大的晶片製造商，包括中國積體電路製造公司（SMIC）和於本週上市的長鑫存儲（CXMT）。
投資者擔憂的是，如果中國繼續發展其自主半導體技術，可能會阻斷一些最大的美國、歐洲及其他亞洲企業進入這個龐大市場。
浸沒式 DUV 光刻機是用來將電路圖案蝕刻在矽晶圓上的工具。這是半導體製造過程中的關鍵部分，由台積電和英特爾等晶圓廠購買。
然而，它用於較不先進的晶片。相比之下，極紫外光刻（EUV）光刻機用於最領先的晶片，例如由蘋果和 NVIDIA 設計的晶片。
ASML 主導 DUV 和 EUV 光刻工具的市場。沒有任何其他公司能夠複製 ASML 的技術，這就是為什麼一家中國公司被報導能夠做到這一點備受關注。儘管如此，人們仍對這些最新發展將對該公司產生什麼影響存有疑問。
談到中國 DUV 機器的性能，半導體製造商專注於一個稱為「良率」的術語，這指的是從製造過程中出來的可用晶片數量。所有晶圓廠都希望達到最大良率。
目前尚不清楚使用自主 DUV 機器的中國製造商是否能提供與 ASML 機器接近或更高的晶片良率。如果良率無法接近 ASML 機器所能提供的水平，這可能會阻礙中國機器採用。
"他們需要達到至少與 ASML 並齊的良率，而不僅僅是擁有一台可用的工具，"Futurum Group 的 AI 主管 Nick Patience 告訴 CNBC。
Patience 表示，中芯國際等中國最大的晶片製造商進口的 DUV 機器與台積電相比「仍然差得多」。
"任何由不知名政府背後的公司製造的機器，起點都差很多。可靠性需要經過多年的現場迭代，而 ASML 已經做到，中國還沒有實現，"Patience 補充道。
中國面臨的另一個挑戰是擴大這些機器的產量。資訊報報導，開發 DUV 工具的中國公司計劃今年生產五台，2027 年產能約為 20 台。
相比之下，ASML 表示計劃在 2026 年產能達到約 130 台 DUV 浸沒式機器，並計劃在 2027 年增加 30%。
"工具的性、機器本身的產量擴大、機隊性能、周邊生態系統以及針對完全折舊 ASML 機器的經濟不佳，所有這些都對中國 DUV 不利，"SemiAnalysis 的一組分析師對 CNBC 表示。
"擴大機器本身的產量是估計不足的部分。"
在該報導引發 ASML 中國市場份額可能侵蝕的擔憂後，ASML 股價週一一度下跌高達 8%。
中國佔據 ASML 第二季度 66 億歐元（約 75 億美元）淨系統銷售額的 14%，約為 9.24 億歐元（約 10 億美元）。
分析師對 CNBC 表示，這在短期內不太可能對 ASML 在中國或全球產生重大影響。
由於出口限制，ASML 已受到限制，無法向中國公司銷售某些浸沒式 DUV 工具。因此，中國製造的 DUV 工具「取代了 ASML 原本因出口管制而流失的收入」，SemiAnalysis 分析師表示，並指出 ASML 正在增加產能以滿足需求。
"ASML 無法合法或物理上供應的工具在當地生產，不會減少已經售罄的訂單簿，"SemiAnalysis 分析師指出。
任何對 ASML 的挑戰「都需要該中國公司能夠在各種全球晶圓廠環境中連續生產可靠的機器並提供支持，這目前看來似乎不太可能」，DGA Albright Stonebridge Group 合夥人 Paul Triolo 告訴 CNBC。
"國內提供少量即使是基本具備能力的 DUV 機器是一回事，支持能夠真正與 ASML 競爭的全球機隊則是另一回事，"他補充道。
路透去年報導稱，中國已完成 EUV 機器的運作原型，這是只有 ASML 能夠製造的另一種工具。然而，分析師表示，DUV 的進步並不意味著中國一定能突破 EUV。
ASML 花了「大約兩十年」和約 100 億美元的研究開發資金，並獲得英特爾、台積電和三星等公司的共同投資，才使 EUV 在商業上可行，SemiAnalysis 表示。EUV 直到 2018 至 2019 年左右才開始在規模化時變得盈利。
"DUV 浸沒式光刻的一些突破適用於更先進的 EUV 技術，但許多並非如此。EUV 光源和光學技術對於 DUV 來說要先進和複雜得多，"DGA Albright Stonebridge Group 的 Triolo 表示。"雖然會有一些學習，但還需要克服許多技術障礙才能實現完全運作的 EUV 系統，"他說。
"我認為 EUV 目前還無能為力。永遠不要說永遠，尤其是針對中國，但這完全是另一項技術，"ODDO BHF 的 Houri 補充道。